上海国际半导体展，新凯来甩出31台自主研发设备，现场工程师直接放出狠话”现在轮到我们卡脖子了。这些设备最薄能雕出0.5纳米的纹路，比荷兰iconASML最新光刻机精度还高。
知道这意味着什么吗，手机芯片能塞进两套系统，核磁共振仪精准度翻三倍，5纳米芯片成本直降。
更绝的是华为派了300名专家驻场，两家联手搞出量子蚀刻黑科技。
当初那些唱中国芯片的可以歇了！从光刻胶到蚀刻机，硬是啃下了整条产业链。
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